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產品名稱:
日本天谷AMAYA株式會社制作常壓CVD設備
產品型號:
D501系列
產品展商:
日本AMAYA天谷制作所
折扣價格:
0.00 元
關注指數:78
產品文檔:
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AMAYA株式會社天谷制作所D501系列
常壓CVD裝置，準備了滿足顧客需求的產品陣容。同時，定做也對應。
對應于半導體制造用、太陽能電池制造用等各種用途。從少量生產到大量生產
形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各種膜種
采用SiC托盤防止重金屬污染，從低溫（200℃）到中溫（500℃）區域可以廣泛成膜
日本天谷AMAYA株式會社制作常壓CVD設備
的詳細介紹
日本AMAYA株式會社天谷制作所
用于小規模生產和開發的柔性常壓CVD設備
D501系列
特征
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這是一種間歇式常壓CVD系統，其中多個晶圓被裝入一個大托盤中，托盤在分散頭下往復運動以形成薄膜。
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它可用于變形的基材。
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它具有緊湊的儀器尺寸和較小的占地面積。
性能
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均勻的薄膜厚度
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取決于薄膜類型和厚度
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支持的晶圓尺寸
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根據可加熱區
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氣體種類
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SiH4， O 2， PH 3， B 2 H6， N 2（TEOS， TEB， TMOP，O 3， TMA 可選）
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薄膜沉積溫度
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350°C~450°C
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生產力
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主要規格
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設備尺寸
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1200毫米（寬） x 2480毫米（深） x 1940毫米（高）
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加熱機構
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電阻加熱
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裝載卸載
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手動方法
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分散頭（氣體噴嘴）
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A63頭
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